三井PELLICLE
领先世界的光掩模防尘用薄膜
- 光学特性
- 清洁性
概要
三井PELLICLE选择光刻时各种曝光波长具有耐光性的薄膜材料，采用特殊膜厚设计以获得高透光率的光掩模用防尘薄膜。
可保证光掩模清洁，有助于提高半导体生产效率。三井PELLICLE基于经验及技术服务，支持新一代光刻技术。
特点
光学特性
透光率99%以上。通过对原料进行前处理并组合应用旋转涂布技术，确保透光率的均匀性。
清洁性
采用精选材料，避免光照劣化及升华成分导致的异物。在1级无尘室内采用清洁机械手系统进行生产，保证产品的稳定高质量。
膜寿命
通过开发支持不同曝光光波的新材料，使用寿命将更长。
用途
防尘用超薄膜材料（LSI制造工艺）